Осаждение химическое из паровой (газовой) фазы (chemical vapour deposition) — процесс, в котором пар и газ вступают в химическую реакцию с получением отложений на поверхности основания.
[ГОСТР МЭК 60194-2—2019. Платы печатные. Проектирование, изготовление и монтаж. Термины и определения]