Фотолитография (ФЛ) — это технологический процесс (ТП), основанный на использовании фотохимических явлений, которые происходят в нанесенном на подложку слое фоторезиста при его обработке ультрафиолетовым (УФ) излучением через маску (фотошаблон ) и последующей операции формирования маски в слое фоторезиста и травлении технологического слоя через маску в ФР.
[Лапшинов Б.А. Технология литографических процессов. Учебное пособие – Московский государственный институт электроники и математики. М., 2011.–95 с.]