Структура металл-окисел-полупроводник (metal-oxide-semiconductor structure; MOS structure) — структура, состоящая из последовательного сочетания металла и окисла (на поверхности полупроводника), и полупроводника.
[ГОСТ Р 57436-2017. Приборы полупроводниковые. Термины и определения]